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郑州中晶电子科技有限公司
发布时间:2006-11-10    来源:转载   阅读次数:1517 分享到:
郑州中晶电子科技有限公司

     产品:CA/平板状氧化铝研磨微粉(等同于Fujimi 的PWA和Microgrit的WCA)
  
    专业从事平板状氧化铝研磨微粉CA的生产、研发、销售于一体的科技型生产企业。具有国际先进水平的生产线和一流的员工队伍,拥有Coulter Multisizer II 型粒度分析仪和其它精密的质控仪器。产品主要用于研磨、抛光半导体硅单晶片和化合物半导体材料、水晶、光学玻璃、彩色电视机显像管玻壳、高档液晶显示器玻璃等,还可以做烧结陶瓷原料。

产品系列

 

CA/平板状氧化铝研磨微粉(等同于Fujimi 的PWA和Microgrit的WCA)

化学名称 外观 比重 莫氏硬度
Al2O3 白色 3.96-3.98g/cm3 9.0

用途:抛光硅单晶片,化合物半导体材料、水晶、光学玻璃、显像管玻壳、液晶显示器玻璃等,并可做高档涂料的填加剂。

CA产品采用独特的生产工艺,使其颗粒尺寸更均匀。其晶体形状为六角平板状,区别于传统磨料的等积型或球形,这种形状使磨料颗粒在研磨运动中平行于被加工工件表面,产生滑动的研磨效果,而非传统磨料的滚动研磨,因而不容易对工件表面产生随机划伤。同时,由于研磨压力是均匀分布在平板状磨粒表面,颗粒破碎减少,耐磨性大幅提高,因而能提供最佳的磨削效率和表面光洁度。实验表明,CA研磨粉能够减少研磨和抛光次数至少10-20%,能够实现快速研磨和抛光,建议客户在使用时以传统磨料的一半用量为起点。

产品粒度分布表:
用电阻法(Coulter)所测的CA12粒度分布数据:

标准粒径
实测数值(um)
规格(um)

最大粒径(dv-0值)

16.9
23
累积高度3%点的粒径(dv-3值)
13.63
19
累积高度50%点的粒径(dv-50值)
8.5
7.8-8.8
累积高度94%点的粒径(dv-94值)
4.44
4

化学分析(%)

化学成分(%)
标准成分(%)
规格(%)
Al2O3
99.36
99.2
SiO2
0.027
0.05
Na2O
0.35
0.55
Fe2O3
0.03
0.08

CA产品规格表: 

粒度分布

产品

平均粒度 (D50值)

 
( 由Coulter Counter测试)

CA3

3.1

CA5

4.7

CA9

6.5

CA12

8.0

CA15

10.5

CA20

14.5

CA25

17.5

CA30

20.5

CA35

24.5

CA40

30.5

CA50 38.0

研磨原理示意图

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