产品:CA/平板状氧化铝研磨微粉(等同于Fujimi 的PWA和Microgrit的WCA)
专业从事平板状氧化铝研磨微粉CA的生产、研发、销售于一体的科技型生产企业。具有国际先进水平的生产线和一流的员工队伍,拥有Coulter Multisizer II 型粒度分析仪和其它精密的质控仪器。产品主要用于研磨、抛光半导体硅单晶片和化合物半导体材料、水晶、光学玻璃、彩色电视机显像管玻壳、高档液晶显示器玻璃等,还可以做烧结陶瓷原料。
产品系列
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CA/平板状氧化铝研磨微粉(等同于Fujimi 的PWA和Microgrit的WCA)
化学名称 | 外观 | 比重 | 莫氏硬度 |
Al2O3 | 白色 | 3.96-3.98g/cm3 | 9.0 |
用途:抛光硅单晶片,化合物半导体材料、水晶、光学玻璃、显像管玻壳、液晶显示器玻璃等,并可做高档涂料的填加剂。
CA产品采用独特的生产工艺,使其颗粒尺寸更均匀。其晶体形状为六角平板状,区别于传统磨料的等积型或球形,这种形状使磨料颗粒在研磨运动中平行于被加工工件表面,产生滑动的研磨效果,而非传统磨料的滚动研磨,因而不容易对工件表面产生随机划伤。同时,由于研磨压力是均匀分布在平板状磨粒表面,颗粒破碎减少,耐磨性大幅提高,因而能提供最佳的磨削效率和表面光洁度。实验表明,CA研磨粉能够减少研磨和抛光次数至少10-20%,能够实现快速研磨和抛光,建议客户在使用时以传统磨料的一半用量为起点。
产品粒度分布表:
用电阻法(Coulter)所测的CA12粒度分布数据:
标准粒径 |
实测数值(um) |
规格(um) |
最大粒径(dv-0值) |
16.9 |
23 |
累积高度3%点的粒径(dv-3值) |
13.63 |
19 |
累积高度50%点的粒径(dv-50值) |
8.5 |
7.8-8.8 |
累积高度94%点的粒径(dv-94值) |
4.44 |
4 |
化学分析(%)
化学成分(%) |
标准成分(%) |
规格(%) |
Al2O3 |
99.36 |
99.2 |
SiO2 |
0.027 |
0.05 |
Na2O |
0.35 |
0.55 |
Fe2O3 |
0.03 |
0.08 |
CA产品规格表:
粒度分布
| |
产品
|
平均粒度 (D50值)
|
CA3 |
3.1 |
CA5 |
4.7 |
CA9 |
6.5 |
CA12 |
8.0 |
CA15 |
10.5 |
CA20 |
14.5 |
CA25 |
17.5 |
CA30 |
20.5 |
CA35 |
24.5 |
CA40 |
30.5 |
CA50 | 38.0 |
研磨原理示意图 |
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郑州中晶电子科技有限公司
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